微波G-CVD石墨烯化学气相沉积系统

型号：Mobile lab

功能与应用：

    与其他沉积方法相比，CVD技术除了具有设备简单、操作维护方便、灵活性强的优点外，还具有以下优势：

（1）可沉积金属、碳化物、氮化物、氧化物和硼化物等；

（2）化学气相沉积过程有高度的分散性，能均匀涂覆几何形状复杂的零件；

（3）涂层和基体结合性好；

（4）涂层的化学成分可调，可制备梯度沉积物或混合镀层；

（5）涂层的密度和纯度可控；

（6）设备简单，操作方便。

设备参数

工作温度：5~45ºC

最大压力:3x106 Pa

精度:±1.5% FS

线性:±（0.5-1.5）%F.S

重复精度:±0.2%F.S.

流量范围:

一路: 0~100 SCCM

二路: 1~199 SCCM

三路: 1~499 SCCM