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场发射扫描电子显微镜 美国FEI公司Nova NanoSEM 450
作者:网站管理员 文章来源:表面工程与再制造重点实验室  发布时间:[2021-06-03] 阅读次数:[]


场发射扫描电子显微镜      美国FEI公司Nova NanoSEM 450

【仪器介绍】

该仪器可实现样品的微观形貌观察微区能谱成分分析线分布、面分布分析晶体样品的晶粒取向和取向关系等分析;配备的背散射探头可获得样品的成分衬度图片;配备的低真空探头可对不导电样品进行形貌及成分分析,而不需要进行喷金处理。

【性能参数】

超高分辨率Schottky肖特基场发射电子枪 

高真空模式分辨率:1nm ( 15KV)1.4 nm (1KV)

低真空模式分辨率:1.5nm(10kV),1.8nm(3kV)

标样放大倍数:20倍~100万倍

加速电压:50V - 30kV,连续可调

电子束流范围 0.6pA -200nA, 连续可调 

探测器:二次电子探测器(ETD、TLD);背散射探测器(CBS);低真空探测器(LVD);IR-CCD相机;导航相机Nav-Cam

五轴马达驱动;移动最大距离:X=Y=110mm,Z=25mm;体旋转最大角度:T=90°;平面旋转R=360°,重复精度<2 μm

EDAX能谱能量分辨率129eV,成分范围Be4~U92 

【功能用途】

广泛应用于物理、化学、生物、地学、矿物、金属、半导体、陶瓷、高分子、复合材料、纳米材料等领域的研究和产品检验。

测试员姓名:李雷

邮箱:lilei1634@sina.com

联系方式:136-1926-5252

 


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