多弧离子镀膜实验设备

型号: AS600DTXBE

主要功能:在真空条件下，采用电弧放电的方法，在固定的阴极靶材上直接蒸发金属，蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子，从而在被镀基体表面沉积成为薄膜的方法。

设备参数

真空室尺寸：Ø1000mm * H1000mm

均匀可镀区：Ø600mm * H600mm

极限真空度：3.0*E-4Pa

压升率：0.2Pa/hr

冷却水： 6ton/hr

占据空间 ：4.5*4.0*3.5

4G-CAE®电弧： 最多9套（3列*3套/列）

抽气系统：粗抽泵+罗茨泵+分子泵+前级泵

真空检测：复合真空计+薄膜真空规

工艺气体MFC：4路

转架：可移出式下转架（4轴、5轴、6轴、8轴任选）

磁控溅射：最多6套（平面靶或柱状靶）

加热系统：500度，3根热电偶监测

GIS气体离子源：1套

偏压电源： 1套

Smart智能源挡板：1套，实现镀膜前的靶材预清洗

冷却水循环系统： 配日本SMC水流开关，智能控制

电气元件：日本欧姆龙PLC、端子、施耐德等空开、接触器

测试员姓名：李雷

邮箱：lilei1634@sina.com

联系方式：136-1926-5252